真空镀膜机溅射和蒸发有什么区别？

蒸发加热目标表面成分自由基或离子形式被蒸发，并在衬底表面处理，成膜过程（散射-岛结构的迷走神经结构层状生长）形成薄膜。

蒸发镀膜成分均匀性不易保证，与特定的因素可以控制，但由于有限的原理，对非单组分涂料，蒸发镀膜成分均匀性不好。 溅射可以简单地理解为电子或高能激光轰击目标的使用，使得表面成分的自由基或离子形式溅射，并沉积在衬底表面的成膜过程中，经验，最终形成薄膜。真空镀膜机的设备 溅射被分为许多类型，在溅射速率不同点和蒸发将成为一个主要的参数。

激光溅射PLD溅射涂层的成分均匀性，易于维护，和原子尺度的厚度均匀性较差（因为脉冲溅射），晶体取向（外）生长的控制也更一般的。